『曝光奖』,助力实验性与创新性摄影 | PHOTOFAIRS

『曝光奖』,助力实验性与创新性摄影

继成功举办首届『曝光奖』(Exposure Award)之后,影像上海艺术博览会(PHOTOFARIS Shanghai)很高兴宣布,第二届“曝光奖”参展申请将不受2020年影像上海艺术博览会取消的影响,继续展开申请与评选。该奖项由Modern Eye独家提供支持,最终获奖者将有机会,在上海的Modern Studio,以个展形式呈现自身创作,展期为2020年9月11日-20日

© Exposure Award 2019 winner, Noémie Goudal, Telluris II, Telluris, 2018. Courtesy of Les Filles du Calvaire (Paris).

2019年,法国视觉艺术家Noémie Goudal的作品,因其大胆的理念以及优雅的视觉效果脱颖而出,其获奖方案由Galerie Les Filles du Calvaire(巴黎)呈现,囊括艺术家近期的三个系列作品。对此,艺术家表示:“很高兴我获得了一个独立展位,这意味着我可以将一些作品和其他媒介结合在一起。”

今年,影像上海博览会将继续聚焦基于图像的艺术作品,而在呈现大师杰作与当代摄影的同时,博览会也充分理解画廊在新市场推出具有突破性和创新性摄影所面临的困难与挑战,尤其是在疫情席卷全球的当下。为了鼓励新兴与试验性画廊,博览会希望『曝光奖』的设立,能够更好地帮助这部分画廊移除经济上的风险,以确保艺术家、收藏家及观众能真正探索并发现摄影所能。

第二届『曝光奖』评审委员会由四位影像艺术行业内的领军人物组成,她们分别为:曹丹(现代传播集团文化艺术平台Modern Art总裁,兼《艺 术新闻/中文版》及《艺术界》出版人);金善英(SUNYOUNG KIM,首尔摄影博物馆策展人);卢妮(谢子龙摄影博物馆执行馆长,中国影像艺术机构联盟秘书长);李锦丽(GWEN LEE,新加坡国际摄影节总监兼联合创始人)。在申请截止之前,博览会将定期与评委对话,聆听她们对奖项的期待,并邀请她们为参与者提供有效的建议。

Still from PHOTOFAIRS 2019

哪些画廊可以申请?

面向全球画廊开放申请,特别是新进入中国市场的画廊,以及呈现新兴艺术家创作的画廊。

申请有什么要求?

申请方案仅限艺术家个展,鼓励呈现先锋摄影,或极具技术和理念创新的艺术家作品。

申请需要哪些基本材料?

  • 完整的代理艺术家名单

  • 画廊的历史介绍(500字左右)

  • 过去/未来一年的画廊展览情况

  • 2019-2020年计划/确认的博览会参展情况

  • 简短的展位方案描述

  • 计划展出的艺术家介绍及简历

  • 5张拟参展艺术家的作品图,附上完整图片说明。

申请贴士   

申请时已经延长至2020年6月26日

想要了解更多可点击这里或发送邮件:applications@worldphoto.org,联系影像艺术博览会团队。